Le laboratoire Albert Fert, anciennement appelé Unité Mixte de Physique, est situé à Palaiseau (91) et implanté sur le site de Thales Research and Technology. Le laboratoire a deux tutelles principales, le CNRS et la société Thales et une tutelle secondaire, l'Université Paris Saclay. L'unité compte environ 90 personnes dont 30 chercheurs (15 CNRS, 10 Thales, 4 Université Paris Saclay, 1 Université d'Evry), 9 IT CNRS et environs 50 personnels non permanents (doctorants, post-doctorants, CDD).
La recherche menée au laboratoire couvre un large spectre de la recherche fondamentale aux démonstrateurs avancés autour de trois thèmes principaux : « spintronique et nanomagnétisme », « supraconducteurs à haute température critique et traitement du signal » et « oxydes fonctionnels ».
La plateforme de croissance et de caractérisation de matériaux à base d'oxydes comprend un cluster ultravide (UHV) de croissance et de caractérisation in-situ comprenant 3 bâtis PLD (chacun équipé d'un système de diffraction d'électrons de haute énergie en incidence rasante, RHEED), deux chambres de pulvérisation cathodique DC/RF et un système de spectroscopie d'électrons photo-émis par les rayons X et ultraviolets (XPS/UPS), tous couplés entre eux sous UHV.
Elle est actuellement gérée par deux ingénieurs permanents, une IR responsable de la plateforme, et un IE responsable technique en fin de carrière (départ en retraite prévu en 2025). Dans ce cadre, l'ingénieur.e sera chargé.e de la responsabilité technique des équipements, de son suivi, et de soutenir différentes activités de recherche du laboratoire. Il/elle interagira étroitement avec les ingénieurs et chercheurs du laboratoire spécialistes de la croissance et caractérisation de couches minces et hétérostructures. Il/elle sera sous la responsabilité hiérarchique de l'IR responsable de la plateforme croissance d'hétérostructures d'oxydes.
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